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  • ADVANCE RIKO北崎臺燈加熱裝置現貨 MILA-5000系列具有紅外金像爐的特點,即高速加熱、冷卻、清潔加熱,是一款小型、低成本的產品,可在任何氣氛下加熱,集成了溫度控制器和這是一種紅外燈加熱裝置, 可以通過USB連接在計算機上進行加熱操作,并且可以輕松管理數據。 查看詳情
  • ADVANCE RIKO 日本進口臺燈加熱裝置 MILA-5000系列具有紅外金像爐的特點,即高速加熱、冷卻、清潔加熱,是一款小型、低成本的產品,可在任何氣氛下加熱,集成了溫度控制器和這是一種紅外燈加熱裝置, 可以通過USB連接在計算機上進行加熱操作,并且可以輕松管理數據。 查看詳情
  • ADVANCE RIKO先進理工 臺燈加熱裝置 MILA-5000系列具有紅外金像爐的特點,即高速加熱、冷卻、清潔加熱,是一款小型、低成本的產品,可在任何氣氛下加熱,集成了溫度控制器和這是一種紅外燈加熱裝置, 可以通過USB連接在計算機上進行加熱操作,并且可以輕松管理數據。 查看詳情
  • ADVANCE RIKO先進理工 臺燈加熱裝置 該裝置是臺燈加熱裝置,可對*大50平方毫米的樣品進行熱處理。 臺燈加熱裝置 MILA-5000 系列作為適用于 20mm 見方的加熱裝置,自推出以來,已被許多客戶使用。為此,我們在保持尺寸的同時,實現了 50mm 見方的熱處理。機身緊湊,集加熱爐、加熱室、溫度控制器于一體。 查看詳情
  • ADVANCE RIKO先進理工 紅外線燈加熱裝置 可以低成本實現80℃/s的高速退火。 該設備為紅外燈設備,采用拋物面反射紅外燈對4-6英寸晶圓進行均勻加熱。它能夠進行高速熱處理,可以方便地用作熱處理工藝研究和開發的裝置。我們可以在單個半導體工藝中進行硅化物形成和氧化膜形成,以及化合物半導體的工藝退火。 查看詳情
  • ADVANCE RIKO 日本紅外燈退火設備現貨 10秒達到目標溫度! 我們相信我們的紅外燈加熱具有高能量密度、近紅外線、高熱響應、溫度可控、真空清潔加熱等特點。可容納 2 英寸(50 毫米)至 12 英寸(300 毫米)晶圓的產品陣容。 我們通過 RTA 系列提供所需的熱處理配方(加熱/冷卻)和氣氛(真空或氣體)來滿足客戶需求。 查看詳情
  • ADVANCE RIKO日本進口 紅外燈退火設備 10秒達到目標溫度! 我們相信我們的紅外燈加熱具有高能量密度、近紅外線、高熱響應、溫度可控、真空清潔加熱等特點。可容納 2 英寸(50 毫米)至 12 英寸(300 毫米)晶圓的產品陣容。 我們通過 RTA 系列提供所需的熱處理配方(加熱/冷卻)和氣氛(真空或氣體)來滿足客戶需求。 查看詳情
  • ADVANCE RIKO原裝紅外燈退火設備北崎 10秒達到目標溫度! 我們相信我們的紅外燈加熱具有高能量密度、近紅外線、高熱響應、溫度可控、真空清潔加熱等特點。可容納 2 英寸(50 毫米)至 12 英寸(300 毫米)晶圓的產品陣容。 我們通過 RTA 系列提供所需的熱處理配方(加熱/冷卻)和氣氛(真空或氣體)來滿足客戶需求。 查看詳情
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