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產品詳情
簡單介紹：
MILA-5000系列具有紅外金像爐的特點，即高速加熱、冷卻、清潔加熱，是一款小型、低成本的產品，可在任何氣氛下加熱，集成了溫度控制器和這是一種紅外燈加熱裝置，
可以通過USB連接在計算機上進行加熱操作，并且可以輕松管理數據。
詳情介紹：
- 鐵電薄膜的晶體退火
- 離子注入后擴散退火、氧化膜形成退火
- 硅及化合物晶片的燒結及合金化處理
- 玻璃基板均熱退火
- 熱循環、熱沖擊、熱疲勞測試
- 用于程序升溫剝離試驗的加熱爐
- 催化效果測試
- 選擇任何氣氛：真空、氣體、氣流或空氣
- **的溫度控制
- 桌面式和緊湊型設計
- 您可以輕松設置溫度程序并從計算機輸入外部信號。
- 加熱過程中的溫度數據可在電腦上顯示
| 模型 |
MILA-5000-PF （均勻加熱型） |
MILA-5000-PN （高溫型） |
MILA-5000UHV （高溫/高真空型） |
|---|---|---|---|
| 溫度范圍 | 室溫～800℃ | 室溫～1200℃ | 室溫～1000℃ |
| 樣本量 | 正方形 20mm x 厚度 2mm | ||
| 加熱氣氛 | 在空氣、低真空、惰性氣體中 | 在空氣、高真空、惰性氣體中 | |
| 過程壓力 | 10Pa至大氣壓（使用RP *1，室溫，無負載） | 10 -4 Pa～大氣壓（使用TMP *1、室溫、無負載） | |
*1 真空排氣裝置是可選的。
*2 加熱溫度根據加熱物體的紅外線反射/吸收、熱容量和材料而變化。
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